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东芝开发新型3D堆叠NAND闪存

来源:驱动之家 作者: 出处:巧巧读书 2007-06-15 进入讨论组
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  近日在一次超大规模集成电路座谈会上,东芝公司公开了一种新的三维堆叠存储芯片技术,并不需要制程的改进,就能够在不大幅增加芯片面积的情况下提高存储密度和数据容量。

  过去的堆叠存储技术,都是简单的将传统平面存储芯片一层一层的叠放起来,并不断重复这一过程。虽然这种方法可以提高芯片存储密度,但是却使制造过程更加复杂,耗时更长。

  东芝凭借新的蚀刻技术,在晶圆上穿孔,制造出多层的门电极和绝缘层。,经过掺杂的硅柱填充这些孔洞后,门电极和绝缘层围绕这些硅柱有间隔的闪存电路。

  东芝的新技术改变了整个闪存芯片的设计结构,可以在不增加芯片体积的情况下大幅度提高存储密度。根据东芝的说法,堆叠32层的情况下可以讲存储密度提高10倍。

  目前,东芝还没有透露这一技术的投产计划。

东芝开发新型3D堆叠NAND闪存(图一)

东芝开发新型3D堆叠NAND闪存(图二)

请保留地址 http://www.qqread.com/hardware/memory/news/2007/06/a317002.html 更多文章 更多内容请看Wlan组网----家庭专题专题,或进入讨论组讨论。
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